圆片检测-检测范围
检测项目
尺寸检测:
- 直径测量:公差范围(±0.01mm,参照ISO 1101)
- 厚度检测:均匀性偏差(≤10μm,GB/T 1214.2-2023)
- 扁平度评估:翘曲度(最大值0.05mm)
- 划痕检测:深度限值(≤0.1μm,ASTM F1048)
- 污染分析:颗粒尺寸(直径≤0.3μm)
- 粗糙度测量:Ra值(0.01-0.1μm)
- 拉伸试验:屈服强度(≥355MPa,ISO 6892-1)
- 硬度测试:维氏硬度(HV 0.3,载荷1kgf)
- 冲击韧性:夏比冲击功(≥20J)
- 元素含量:碳当量(CEV≤0.42,GB/T 223)
- 杂质检测:氧含量(≤1ppm)
- 合金偏差:镍含量(±0.05wt%)
- 晶粒度评级:G级(≥7,ASTM E112)
- 夹杂物分析:A类(≤1.5级)
- 相组成:β相比例(≤10%)
- 电阻率测量:范围(0.1-100Ω·cm)
- 介电常数:误差(±5%)
- 载流子浓度:控制值(1e15-1e18/cm³)
- 热膨胀系数:差值(±1×10⁻⁶/K)
- 热导率测试:最小值(≥150W/m·K)
- 耐热性:软化点(≥1000°C)
- 圆度误差:限值(≤0.02mm)
- 同心度评估:偏差(≤0.01mm)
- 边缘完整性:崩边尺寸(≤50μm)
- 膜厚测量:均匀度(±0.5μm)
- 附着力测试:剥离强度(≥5MPa)
- 耐磨性:磨损率(≤0.001mm³/N·m)
- 盐雾试验:耐蚀时间(≥500h)
- 氧化速率:增重量(≤0.1mg/cm²)
- 应力腐蚀:裂纹扩展率(≤10⁻⁸mm/s)
检测范围
1. 硅半导体圆片: 涵盖6英寸至12英寸晶圆,重点检测表面洁净度、电阻率均匀性和微瑕疵密度。
2. 铝合金圆盘: 用于航空航天部件,侧重力学性能如屈服强度、疲劳极限及热膨胀一致性。
3. 陶瓷绝缘圆片: 如氧化铝材质,核心检测介电强度、热冲击抗力和微观裂纹发生率。
4. 聚合物薄膜圆片: 应用于包装行业,强调厚度偏差、拉伸延展性和透光率稳定性。
5. 不锈钢圆片: 针对食品设备,检测重点包括耐腐蚀性、表面光洁度和成分铬镍比控制。
6. 碳化硅衬底圆片: 用于高功率电子,聚焦热导率、晶格缺陷密度和电绝缘性能评估。
7. 铜导电圆片: 在电路板中应用,核心检测电导率、氧化层厚度和弯曲疲劳寿命。
8. 石英光学圆片: 涉及激光器件,重点评估透射率均匀性、表面粗糙度和热稳定性。
9. 复合材料圆片: 如碳纤维增强,检测分层缺陷、界面结合强度和湿热老化性能。
10. 玻璃基板圆片: 用于显示面板,侧重平整度控制、抗冲击韧性和化学耐受性测试。
检测方法
国际标准:
- ISO 1101:2017 产品几何技术规范尺寸公差
- ASTM E112-13 金属材料平均晶粒度评级方法
- ISO 6892-1:2019 金属材料拉伸试验
- ASTM F1048-05 半导体晶圆表面检测规程
- ISO 9227:2022 盐雾腐蚀试验
- GB/T 1214.2-2023 形状位置公差检测
- GB/T 228.1-2021 金属拉伸试验方法
- GB/T 4340.1-2009 维氏硬度试验
- GB/T 10125-2021 人造气氛腐蚀试验
- GB/T 1800.1-2020 产品几何技术规范基础公差
检测设备
1. 光学显微镜: OLYMPUS BX53M型(放大倍数50x-1000x,分辨率0.2μm)
2. 轮廓仪: TAYLOR HOBSON PGI 1280型(测量精度±0.01μm,扫描速度10mm/s)
3. 电子万能试验机: INSTRON 3369型(载荷范围0.5kN-50kN,精度±0.5%)
4. 直读光谱仪: ARL 4460型(检测限0.001%,元素范围Li-U)
5. 扫描电镜: HITACHI SU5000型(分辨率1nm,加速电压0.5-30kV)
6. 硬度计: WILSON VH1150型(载荷0.3-10kgf,HV范围10-3000)
7. X射线衍射仪: RIGAKU SMARTLAB型(角度精度0.0001°,2θ范围3-90°)
8. 热分析仪: NETZSCH STA 449F3型(温度范围-150°C-1000°C,灵敏度0.1μg)
9. 厚度测量仪: MITUTOYO Litematic VL-50型(量程0-25mm,分辨率0.001mm)
10. 表面粗糙度仪: MJianCeUTOYO SJ-410型(Ra测量范围0.01-40μm,取样长度0.25mm)
11. 电阻率测试仪: KEITHLEY 2400型(量程1μΩ-100MΩ,精度±0.05%)
12. 盐雾试验箱: Q-FOG CCT1100型(温度控制±2°C,喷雾量1-2ml/80cm²/h)
13. 金相制备系统: STRUERS Tegramin-30型(研磨粒度0.01μm,自动抛光)
14. 冲击试验机: ZWICK RKP450型(冲击能量450J,温度范围-196°C-100°C)
15. 无损检测仪: OLYMPUS EPOCH 650型(超声频率1-30MHz,缺陷检出尺寸0.1mm)
北京中科光析科学技术研究所【简称:中析研究所】
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。